- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。
- 相位调制器(phase modulators)
- 速度匹配光电探测器(velocity-matched photodetectors)
- 四分之一波片反射镜(quarter-wave mirrors)
- 双折射调谐器(birefringent tuners)
- 声光调制器(acousto-optic modulators)
- 普克尔斯盒(Pockels cells)
- 模消除腔(mode cleaner cavities)
- 模清洁器(mode cleaners)
- 脉冲选择器(pulse pickers)
- 量子阱(quantum wells)
- 量子点(quantum dots)
- 亮度转换器(brightness converters)
- 空间光调制器(Spatial Light Modulator)
- 可饱和半导体布拉格反射镜(saturable Bragg reflectors)
- 抗反射涂层(anti-reflection coatings)
- 金属反射镜(metal-coated mirrors)
- 金属-半导体-金属光探测器(metal–semiconductor–metal photodetectors)
- 金属-半导体-金属光电探测器(metal-semiconductor-metal photodetectors)
- 集成光学(integrated optics)
- 激光功率稳定系统(noise eaters)
- 积分球(integrating spheres)
- 硅光子学(silicon photonics)
- 光子学(photonics)
- 光学滤波器(optical filters)
- 光衰减器(optical attenuators)
- 光束整形器(beam shapers)
- 光电子学(optoelectronics)
- 光电探测器(photodetectors)
- 光导开关(photoconductive switches)
- 功率计(Powermeters)
- 法兰(Flange)
- 发光二极管(light-emitting diodes)
- 二色性反射镜(dichroic mirrors)
- 电吸收调制器(electroabsorption modulators)
- 电介质涂层(dielectric coatings)
- 电介质反射镜(dielectric mirrors)
- 电光调制器(electro-optic modulators)
- 超辐射光源(superluminescent sources)
- 超辐射发光二极管(superluminescent diodes)
- 超反射镜(supermirrors)
- 布儒斯特盘(Brewster plates)
- 布拉格反射镜(Bragg mirrors)
- 标准具(etalons)
- 半导体可饱和吸收反射镜(semiconductor saturable absorber mirrors)
- 白光光源(white light sources)
- Q开关(Q switches)
- P-I-N型光电二极管(p-i-n photodiodes)
- Lyot滤波器(Lyot filters)
- G-T干涉仪 interferometers(Gires–Tournois interferometers)
- GT干涉仪(Gires-Tournois interferometers)
定义:
采用周期性结构的布拉格反射的反射镜结构。
布拉格反射镜(也称为分布布拉格反射器)是一种反射镜结构,包含了两种光学材料组成的可调节的多层结构。
最常用的是四分之一反射镜,其中每一层的厚度都对应四分之一的波长。后面的条件适用于正入射的情况,如果反射镜用于较大角度的入射时,则相对的需要层厚更大。
工作原理
布拉格反射镜的工作原理如下。在两材料的每个界面处都发生菲涅尔反射。在工作波长时,两个相邻界面处反射光的光程差为半个波长,另外,界面处的反射系数的符号也会发生改变。
因此,在界面处的所有反射光发生相消干涉,得到很强的反射。反射率是由材料的层数和材料之间的折射率差决定的。反射带宽则主要由折射率差决定。
图1给出了采用8层TiO2和SiO2材料的布拉格反射镜的电场穿透曲线。蓝色曲线对应波长为1000nm的光从右侧入射时的强度分布曲线。
需要注意的是,在反射镜外面强度曲线发生振荡,是由于相反方向的波发生干涉效应。灰色曲线是波长为800nm时对应的强度分布曲线,这时很大一部分光可以透过反射镜涂层。
图2给出了反射率和群时延色散随波长的变化曲线。反射率在有些光学带宽范围内很高,这与采用材料的折射率差和层数有关。色散是由反射相位对光学频率二次求导计算得到的。色散在反射频带的中心波长处很小,但是往两边迅速增大。
图3给出了光场穿透反射镜的色阶图。可以看到,反射频带只有很小部分的光场可以穿透反射镜。
布拉格反射镜的类型
可以采用下面几种不同的技术制备布拉格反射镜:
- 电介质反射镜采用薄膜涂层技术,例如采用电子束蒸镀或者离子束溅射技术,它可以用作固态体激光器的激光反射镜。这种反射结构包含了非晶材料。
- 光纤布拉格光栅,包括长周期光纤光栅,通常用于光纤激光器和其它光纤装置中。类似的,体布拉格光栅也可以由光敏材料制作。
- 半导体布拉格反射镜可以采用光刻技术制备。这种反射镜可用在激光二极管中,尤其是表面发射激光器中。
- 还有用在波导结构中的各种布拉格反射器,采用波纹波导结构,由光刻技术制备。这种类型的光栅可用在一些分布布拉格反射器或者分布反馈激光二极管中。